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四甲基氢氧化铵（Tetramethylammonium hydroxide） ，是一种有机化合物，分子式为(CH₃)₄NOH，分子量约91.15。通常以五水结晶化合物 的形式存在，呈现为无色潮解性针状晶体，有一定的氨气味，熔点62~71℃，沸点120℃。受热易分解，在135~145℃时分解气化，高纯度的四甲基氢氧化铵在140℃时彻底分解，不留下任何残留物。易溶于水和醇类有机溶剂，微溶于二甲基亚砜、二氯甲烷等有机溶剂。四甲基氢氧化铵具有强碱性，能和多种酸反应生成季铵盐，在空气中能迅速吸收二氧化碳形成碳酸盐，还具有较强的甲基化能力，酯化反应速度快。 

工业上，一般采用四甲基铵盐和氢氧化物作为原料制备四甲基氢氧化铵，常见的制备方法包括沉淀法、碱置换法、双极膜电渗析法、电解法和离子膜电解法等， 并可采用电渗析法、离子交换树脂法进行提纯。四甲基氢氧化铵被广泛用于半导体领域，主要用作印刷电路板的光刻显影剂以及微电子芯片制造中的清洗剂。在工业领域和分析领域也有广泛用途，如用作有机合成试剂、表面活性剂、催化剂、缓蚀剂及甲基化溶剂等。

 

• 电子级四甲基氢氧化铵的生产上一般会涉及到除硼，主要原因如下：

• 原料纯度需求：生产电子级四甲基氢氧化铵的主要原料通常为四甲基碳酸氢铵等，在其制备过程中，原料中可能含有少量的硼杂质。例如，一些以三和碳酸二甲酯为原料合成四甲基碳酸氢铵的过程中，可能会引入微量的硼杂质。

• 电解过程杂质引入：在离子膜电解四甲基碳酸氢铵生产四甲基氢氧化铵的过程中，电解槽中的阳极液和阴极液循环系统可能会从电解槽材料、循环泵等设备中溶出微量的硼杂质。比如电解槽的材质如果含有硼元素，在电解过程中的长期使用和腐蚀作用下，硼杂质可能会溶解进入电解液中

• 产品纯度要求：电子级四甲基氢氧化铵主要用于集成电路、液晶显示器等电子行业，对纯度要求极高，其产品中金属离子含量需低于 1ppb，阴离子含量如碳酸根、硝酸根、氯离子等需低于 50ppb。硼杂质的存在会影响产品的性能和质量，导致在电子器件制造过程中出现缺陷，如在集成电路的光刻工艺中，硼杂质可能会干扰光刻胶的显影效果，降低线路的精度和可靠性

• 离子交换树脂法提纯除硼

  离子交换树脂对杂质离子有吸附和交换作用，能有效去除溶液中的硼杂质。通过选择合适的离子交换树脂，让电解液或原料液通过树脂柱，硼杂质被树脂吸附，从而降低溶液中的硼含量。

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