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湿电子化学品，又称超高纯试剂或工艺化学品，是指主题成分纯度大于99.99%，杂质离子和微粒数符合要求的化学试剂，是重要的晶圆制造材料之一。它作为“工业味精”处在上下产业链中间的微细加工制作过程中，主要功能是清洗和刻蚀，还可以用做光刻胶显影和去除，同时也是作为一种关键性的损耗品参与到产业链的上下游。

电子级化学品应用于晶圆的清洗，光阻剂的移除中，若有杂质残留在晶圆表面，会影响晶片的良导率，尤其是先进制样（20nm以下）影响较大。电子湿化学品对洁净水的电导率、离子含量、TOC、DO和颗粒物有着特别严格的要求，常用的超纯水标准有国标GB/T 1146.1-2003和美标ASTM-D5127-13。另外，硼元素是半导体生产中的P型杂质，过量会使N型硅发生反转，从而影响电子和空穴的浓度，因此硼元素的监控就显得尤为重要。

 在超净高纯化学试剂溶液中除硼，主要有以下两种方法：

离子交换法

• 原理：利用特定的离子交换树脂（如进口Tulsimer CH-99除硼树脂）来吸附溶液中的硼。这种树脂上的多羟基胺基团能够与硼酸根离子形成高度稳定的络合物，从而选择性地吸附硼元素，即使在低浓度条件下也能展现出高效的吸附能力

• 应用：适用于低浓度硼的深度去除，具有高效、可再生等优点。在半导体制造、电子、制药等高科技产业中，离子交换树脂技术在超纯水除硼领域得到了广泛应用。

• 优势：操作简便，选择性好，能够将硼元素含量控制在极低水平。例如，CH-99除硼树脂可以在宽pH条件下从有机溶剂中去除硼，处理级别在PPT，更具有良好的再生能力

  
  

反渗透法

• 原理：通过半透膜将水与溶解物分离，其中硼等离子无法透过膜而被截留

• 应用：广泛应用于海水淡化及超纯水制备。在超净高纯化学试剂溶液中，反渗透法同样可以有效去除硼元素，同时去除多种杂质

• 优势：处理效率高，可以同时去除多种杂质，对溶液的纯度提升有显著效果

在选择除硼方法时，需要综合考虑溶液中硼的初始浓度、处理规模、成本预算以及对最终产品纯度的要求等因素。

Tulsimer CH-99 基本参数

• 主体结构：交联聚苯乙烯

• 物理型式：含水球状

• 官能团：胺聚羟基

• 目数（湿）：16 to 50

• 粒度（95% minm.）：0.3 - 1.2 mm

• 湿度：46±3%

• 反洗稳定密度：680 - 720 gm/lit

• 最大温度稳定性：80℃（175℉）

• 总交换量：0.8 meq/ml

• 平衡硼量：5.7 meq/ml

• 离子型式：氯

性能特点

• 高选择性：树脂上的多羟基胺基团与硼酸根离子形成的络合物高度稳定，能够选择性地吸附硼元素，即使在低浓度条件下也能展现出高效的吸附能力

• 高吸附容量：得益于其优化的树脂结构和功能活性基团，CH-99树脂能够实现快速的吸附动力学过程，大大提升硼离子的处理速率和总体吸附容量

• 良好的稳定性和耐受性：该树脂能在多种共存离子环境下保持稳定吸附效果，不易受到如Na2SO4和CaCl2等常见离子的影响，适应性强，且在广泛应用中表现出优越的耐用性

• 经济效益突出：由于其出色的吸附性能和再生能力，CH-99的应用可以显著减少处理时间、树脂用量以及再生过程中的能源消耗，从而降低运营成本，提高整体经济效益