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在并酮有机溶剂中除硼是必要的，特别是在半导体制造等领域，并酮作为清洗剂或漂洗剂使用时，其纯度尤其是硼元素含量对产品质量有着至关重要的影响。硼属于p型半导体受主杂质，若过量会使n型硅片反型，导致产品不良

以下是一些常见的并酮除硼方法：

吸附法

• 原理：利用特定的吸附剂（如改性树脂、活性炭等）对硼元素进行物理或化学吸附，从而将硼从并酮中去除

• 应用：适合处理低至中等浓度的硼，且操作简便，成本相对较低

• 实例：一种改性树脂在硼脱除过程中应用，其脱硼能力可达到6.16mg/g，且洗脱条件温和，大大提高了树脂的使用寿命。

膜分离法

• 原理：通过具有选择性透过性的膜材料，在压力差等驱动力作用下，使并酮中的硼元素被截留，从而实现硼的去除

• 应用：适用于并酮等有机溶剂的除硼，具有较高的除硼效率，且膜分离过程通常不涉及化学反应，操作相对简单

• 实例：利用活性聚酰胺（PA）层和聚异丁烯（PIB）柔性链聚合物互穿制备的除硼用有机物复合膜，对硼的选择性更高，在溶液pH中性条件下，可将硼元素含量控制在10ppt以下

离子交换法

• 原理：使用专门的离子交换树脂（如CH-99除硼离子交换树脂），通过树脂上的官能团与硼形成络合物，实现硼的有效吸附

• 应用：特别适用于低浓度硼的深度去除，具有高效、可再生等优点

• 实例：在半导体用超净高纯化学试剂生产中，采用具有邻苯二酚官能团的新型螯合树脂，可在宽pH条件下从有机溶剂中去除硼，并且吸附的硼可以用质量浓度10-15%乙酸等温和的酸在水溶液中洗脱，具有良好的再生能力

选择合适的并酮除硼方法需要综合考虑硼的初始浓度、处理规模、成本预算以及对最终产品纯度的要求等因素。

Tulsimer CH-99除硼离子交换树脂是一种专为去除水溶液中硼及其盐而设计的选择性离子交换树脂，在多个领域有着广泛应用。以下是其主要应用和性能特点：

应用领域

• 超纯水制备：在半导体制造、液晶显示器（LCD）和有机发光二极管（OLED）生产等高科技领域，超纯水的质量对产品性能和实验精确度具有决定性影响。CH-99树脂能够有效去除水中的硼元素，确保超纯水的电阻率超过18.25MΩ/cm，达到超纯标准

• 废水处理：在一些工业废水中，硼或硼盐的含量可能较高，会对环境造成污染。CH-99树脂可以有效地将废水中的硼含量降低到环境可接受的水平

• 化工工业：在某些化工生产过程中，微量的硼或硼盐可能会影响产品的质量和性能。CH-99树脂可以在较大的pH范围内，甚至有其他离子存在的溶液中有效地去除硼及其盐

性能特点

• 高选择性：CH-99树脂上的多羟基胺基团能够与硼酸根离子形成高度稳定的络合物，从而选择性地吸附硼元素，即使在低浓度条件下也能展现出高效的吸附能力

• 高吸附容量：得益于其优化的树脂结构和功能活性基团，CH-99树脂能够实现快速的吸附动力学过程，大大提升硼离子的处理速率和总体吸附容量

• 良好的稳定性和耐受性：该树脂能在多种共存离子环境下保持稳定吸附效果，不易受到如Na2SO4和CaCl2等常见离子的影响，适应性强，且在广泛应用中表现出优越的耐用性

• 经济效益突出：由于其出色的吸附性能和再生能力，CH-99的应用可以显著减少处理时间、树脂用量以及再生过程中的能源消耗，从而降低运营成本，提高整体经济效益

CH-99除硼离子交换树脂凭借其卓越的性能和广泛的应用，为多个行业提供了高效、经济的除硼解决方案。