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氟化氪光刻机废水除氟的核心技术‌在于利用特定的处理工艺去除废水中的氟离子。这一技术主要应用于半导体制造领域，特别是在光刻机的清洗过程中产生的废水中。通过有效的除氟处理，可以减少对环境的污染，同时符合环保要求‌。

‌氟化氪光刻机的工作原理‌基于深紫外(DUV)光刻技术，使用248纳米的光源波长，分辨率小于等于110纳米，套刻精度精确至25纳米以内。这种技术水平的提升反映了我国在精密制造与光学工程领域的深厚积累‌34。

‌除氟技术的具体应用‌包括使用特定的化学或物理方法，如沉淀法、离子交换、电渗析等，来去除废水中的氟离子。这些方法可以有效降低废水中的氟含量，达到排放标准。此外，结合多重曝光技术，国产光刻机的技术已经成熟，从DUV光刻机到EUV光刻机，标志着我国在高端光刻机领域取得了重大技术突破‌12。

‌环保意义及产业影响‌方面，有效的废水处理不仅符合环保要求，减少对环境的污染，同时也推动了半导体产业的可持续发展。随着国产光刻机技术的不断成熟与应用拓展，中国半导体产业在全球科技舞台上的地位将进一步提升‌。

Tulsimer® CH-87 UP 是在 Tulsimer® CH-87 的基础上进行混合升级的一款专用除氟

树 脂。能更好的适应高盐、高氟环境下的选择性除氟。且针对氨基磷酸型树脂长时间

在高 钙镁环境下工作可能板结的问题，以及出水可能浑浊的问题进行了有效升级。

Tulsimer® CH-87 UP 的去除氟离子的能力可以达到 1ppm 以下的水平。它可以在宽泛的

PH 条件下工作，有极高的工作效率，并且很容易用氯化铝进行再生。可以广泛的应用于

光伏行业，氟化工行业等。

优势

1、处理精度，处理后废水氟化物含量可达到1ppm以下，稳定达标《地表水环境质量标准》GB3838-2002，表三标准；2、吸附量大，对于氟化物实际操作交换量能够达到6-8g/l；3、选择性除氟，树脂可以在盐环境运行，并且只吸附氟，不受硫根等阴离子的影响；4、专门开发用于污水除氟的特种离子交换树脂，解决了活性氧化铝、羟基磷灰石等吸附材料用于污水除氟时，使用过程中出现的吸附量小、再生时间长（至少8小时），再生后交换量衰减严重、运行成本、滤料体量大、占地面积大等难题；5、能对低浓度含氟废水进行深度处理，浓缩比，解决低浓度废水处理难题；6、模块组件形式，自动化程度，操作简单。