产品与服务

产品名称：浅槽隔离抛光液/STI Slurry抛光液/浅沟槽隔离化学机械抛光液

产品简介：STI Slurry 适用于集成电路当中的铜互连工艺制程中铜的去除和平坦化。

具有高的铜去除速率，碟型凹陷可调，低缺陷等特性。可应用于逻辑芯片以及3D NAND和DRAM芯片等量产使用。清除集成电路中铜抛光后表面的抛光颗粒和化学物残留，以防铜表面腐蚀，降低表面缺陷。

适用范围：

单晶硅、多晶硅的研磨抛光，存储器制程和背照式传感器(BSI)制程等。可定制选择稳定的选择比，去除速率，对氧化物/氮化物的选择比。硅精抛液系列具有低缺陷的优点。BSI抛光液系列具有理想的硅和二氧化硅去除速率和选择比。

吉致电子STI抛光液使用方法：

1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。

2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。

3.循环抛光可以用原液。

吉致电子STI抛光液储存方法：

1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃

2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。

3.避免敞口长期与空气接触。

吉致电子STI抛光液价格：

吉致电子的浅槽隔离抛光液（STI Slurry）生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。

本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。

无锡吉致电子25年研发生产——浅槽隔离抛光液/STI Slurry抛光液/浅沟槽隔离化学机械抛光液/浅沟槽隔离Slurry/浅槽隔离研磨抛光液/STI浅槽隔离平坦化抛光液slurry/浅沟槽隔离抛光液抛光浆料slurry/吉致电子STI抛光液

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