产品与服务

产品名称：钨抛光液/W CMP研磨液/W slurry/半导体抛光液

钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO₂水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.

产品特点：

1.良好的微粒形状，纯度高、粒度分布均匀等方面优点。

2.该产品悬浮体系稳定，被抛光工件表面稳定，粗糙度低。

3.粒度大小和晶向可控，可根据客户对工件表面精度的要求进行调配。

我司产品优点：

1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。

2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。

3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。

4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。

5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。

可定制化：

我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。 

使用方法：

1.以防少许沉淀，建议使用前先摇匀。

2.使用时，根据不同行业的需要可用过滤清洁水加以稀释，调制不同浓度。

3.现场需保持清洁无扬尘，防止受到抛光液配制和使用过程遭到污染。

4.循环使用粘度增大时,应予以重新配制新的抛光液，以免损伤工件，降低良率。

储存方法：

1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃

2.低于0℃以上储存，防止结冰，在零度以下因产生不可再分散结块而失效。

3.避免敞口长期与空气接触。

安全处置：

1.车间内必须保持良好的通风状况。

2.避免放置在儿童能接触到的地方。如与眼睛或皮肤接触，请用大量清水冲洗。

3.在使用时请勿进食或吸烟。

4.使用前可参阅安全技术说明书。

包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)

产品制造：品性依据ISO9001规范

保存期限：保质期为二年，建议在一年内使用。

保存条件：温度范围=5°C~35°C ，湿度范围<=70%

危险特征：产品本身没有刺激性，对人体无害。

废弃物处理：切勿将废弃抛光剂排放入下水道、水体或土壤，废置抛光液应符合当地环保标准来处理

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/

CMP集成电路抛光液

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