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  主要应用有机合成中的保护剂

  作为羟基保护试剂:在有机合成中,可与醇、酚等含羟基化合物反应,将羟基转化为三甲基硅氧基(\(-OSi(CH_3)_3\)),避免羟基在反应中被氧化或干扰其他反应(如酰化、烷基化)。反应完成后,可通过稀酸或氟化物(如四丁基氟化铵)去除保护基,恢复羟基。

  示例:与乙醇反应生成三甲基硅基乙醚(\(CH_3CH_2OSi(CH_3)_3\)),保护乙醇的羟基。

  材料科学与表面处理

  制备硅氧烷涂层:通过等离子体聚合或气相沉积,HMDSO可在金属、玻璃、聚合物表面形成均匀的硅氧烷薄膜,赋予材料疏水性、耐腐蚀性或低摩擦性。例如,在玻璃表面处理后可使其防水防雾。

  溶胶-凝胶法前驱体:与其他硅烷(如四乙氧基硅烷)混合,经水解缩合可制备有机硅氧烷凝胶或薄膜,用于涂料、粘合剂等。

  溶剂与稀释剂

  作为有机硅树脂、硅橡胶的稀释剂,降低体系粘度,改善加工性能,且易挥发,不会残留于最终产品中。因化学惰性,可作为高温反应的惰性溶剂,尤其适用于对水敏感的反应(如格氏反应、金属有机反应)。

  电子与半导体行业

  用于光刻胶处理:在半导体制造中,HMDSO可作为光刻胶的预处理剂,增强光刻胶与硅片表面的附着力,减少后续显影时的脱落问题。

  等离子体刻蚀辅助剂:在等离子体刻蚀工艺中,其蒸气可参与反应,调节刻蚀速率或保护特定区域,提高刻蚀精度。

  分析化学中的衍生化试剂

  用于气相色谱(GC)分析:对极性化合物(如醇、胺)进行衍生化,使其转化为非极性的硅氧烷衍生物,改善在色谱柱中的分离效果和检测灵敏度。

CAS NO:107-46-0

EC NO:203-492-7

分子式:C6H18OSi2

分子量:162.38

别 名:;六甲基二硅醚;六甲基二硅氧烷;硅醚;HMDO;MM;

结构式:六甲基氧二硅烷 107-46-0


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规格参数

  • 行业分类:

    化工

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