MS-450高真空多靶磁控溅射镀膜机

真空腔室:直径450✕H400mm,1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质,氩弧焊接,前开门结构;

真空系统:机械泵+分子泵(进口和国产可选);

极限真空:优于5✕10-5Pa(经烘烤除气后);

真空抽速:大气~8✕10-4Pa≤30min;

升降基片台:2~6英寸基片台,靶基距60~120mm连续在线自动可调,旋转0~20r/min可调,可加热至500℃(可选水冷功能),可选配偏压清洗功能;

磁控靶:直径3英寸2~4只(可升级成直径4英寸靶2~3只),兼容直流和射频,可以溅射磁性材料的靶材;

溅射电源:直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选;

质量流量计:2~3路工艺气体,可根据工艺要求增加;

膜厚监控仪:可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪;

控制方式:PLC+触摸屏控制系统,具备漏气自检与提示、通讯故障,实现一键抽停真空。


详情:

规格参数

  • 行业分类:

    机械及行业设备/其他行业专用设备/其它

  • 产品类别:

    镀膜机

  • 品  牌:

    WAYES-VAC

  • 规格型号:

    MS-450

  • 库  存:

    1

  • 生 产 商:

    北京维意真空技术应用有限责任公司

  • 产  地:

    中国北京市大兴区

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