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扩散炉主要满足半导体电力电子器件、大功率集成电路等行业,对所加工的硅
片进行扩散、氧化、退火、合金等工艺。主要由扩散炉加热炉体、气源系统、 控制系统、超净化操作系统等组成。

用工控机微控方式或者程控方式操作。


扩散炉技术指标:
可处理硅片尺寸:2—12英寸
外型形式:卧式1—4管结构
工作温度:200℃—1300℃
恒温区长度及精度:200mm—1100mm≤±0.5℃
单点温度稳定性、重复性:≤±1℃/24h
温度斜变:可控升温速率15℃/min
可控降温速率:5℃/min
送片装置:手动推拉
气路系统:1—5路工艺气体/管
气体控制:手动浮子流量计
控制方式:程控


详情:

规格参数

  • 行业分类:

    机械及行业设备/电子产品制造设备/其他电子产品制造设备

  • 产品类别:

  • 品  牌:

    福润德

  • 规格型号:

  • 库  存:

  • 生 产 商:

    青岛福润德微电子设备有限公司

  • 产  地:

    中国山东省青岛市

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