产品与服务

一、基础配置 ‌真空室‌ 尺寸：Ф1550×1800mm，材质为SUS304不锈钢，具备高耐腐蚀性和密封性‌。 工件架：直径Ф1400mm，转速10-30rpm可调，支持多类型基板均匀镀膜‌。 ‌射频源与蒸发源‌ 搭载23寸射频离子源（RF离子源），通过高密度离子电流提升膜层致密性和耐摩擦性（通过4万次摩擦试验）‌。 蒸发系统采用双电子枪（16F型号），搭配12穴环形坩埚及热阻蒸装置，支持复杂多层镀膜（100层以上）‌。 ‌排气系统‌ 组合式设计：机械泵（275/SV630型号）+ 罗茨泵（爱德华品牌）+ 扩散泵及低温冷凝器（POLYCOLD），极限真空度≤7.0×10⁻⁵Pa，抽气至工作真空仅需15分钟‌。 ‌膜厚监控‌ 集成HOM2R-VIS350A光学膜厚监控仪，波长范围350-1100nm，搭配6点式水晶传感器和晶控系统，实现纳米级精度控制‌。 

二、技术参数 ‌真空性能‌：极限真空≤7.0×10⁻⁵Pa，抽气时间≤15分钟‌。 ‌镀膜层数‌：支持100层以上复杂镀膜工艺‌。 ‌电子枪配置‌：双电子枪（日本电子16F型号），支持多点及环型坩埚‌。 ‌传感器系统‌：XTC/3+6点式水晶传感器，实时监控镀膜过程‌。 

三、应用领域 ‌光学薄膜‌：包括AR膜（抗反射膜）、AF膜（防指纹膜）及AS膜（防污膜）‌。 ‌工业应用‌：适用于光学器件、触摸屏、镜头、显示面板等领域的镀膜需求‌。

 四、售后服务 提供安装调试、工艺培训及设备维护支持‌。 设备支持租赁或购买，可根据需求灵活选择‌。 

五、设备优势 ‌高精度‌：结合光学监控与晶控系统，确保膜层均匀性‌。 ‌高效稳定‌：双电子枪与射频离子源组合，提升镀膜效率与膜层耐久性‌。 ‌模块化设计‌：真空室、排气系统等组件可根据工艺需求扩展或调整‌