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喷涂硅靶材Spray Si Target

产品说明Product description

以等离子体为热源,在真空环境,或负压氮气或氩气保护环境下将Si粉末加热到熔融或半熔融状态并高速冲击背管表面形成致密涂层,从而制备出高纯度、低氧含量、高致密度Si靶材。

With plasma as the heat source, high purity, low oxygen content, high density Si targets are produced from Si powder. The Si powder is heated to molten or semi-molten state in vacuum or at a negative pressure of nitrogen (N2) or argon (Ar) and deposited on the surface of backing tube at high speed to form dense coatings.

产品特点Products feature

项目Item

参数Specifications

检测手段Testing method

纯度Purity(Si+B)

≥99.99%

密度Density

≥2.2 g/cm3

阿基米德密度仪

Archimedes densimeter

杂质含量Inclusions

Fe +Al+Ca:≤50 ppm

B: ≤100 ppm

O:≤2000 ppm

N:≤500 ppm

杂质总和(O、N、B除外):≤100 ppm

Total impurity (excluding O, N, B ): ≤100 ppm

ICP

电阻率

Electrical resistivity

≤10Ω·cm

四探针电阻率仪

Four probe resistivity meter

背管材质Backing tube

-选用304/316L不锈钢(无磁)。

304/316L stainless steel (non-magnetic).

靶材尺寸Dimension

-按照图纸要求加工

According to customized drawings.

应用领域Applications

-用于制作SiO2/Si3N4膜,主要用于光学玻璃,触摸屏之AR膜系,Low-E镀膜玻璃,半导体电子,平面显示,触摸屏。

For deposition of SiO2/Si3N4films, for optical glasses, AR films of touch panel screens, Low-E glasses, semiconductor devices and flat panel screens.


详情:

规格参数

  • 行业分类:

    化工/陶瓷

  • 产品类别:

  • 品  牌:

    拓吉泰

  • 规格型号:

    旋转靶/平面靶

  • 库  存:

    10000

  • 生 产 商:

    安徽拓吉泰新型陶瓷科技有限公司

  • 产  地:

    中国安徽省合肥市

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